江苏海思半导体科技有限公司是专业从事步进式投影光刻机、全自动光刻机 (Mask Aligner) 研发、制造与销售， 海思半导体掩模对准可容纳 300 mm 产品，兼容不容形状和厚度的晶圆和基片，应用于MEMS，集成电路、混合模块、化合物半导体、光电模块、3D封装，光学器件、功率器件，微纳米加工等各个领域。

目前已与国际多家知名半导体制造企业、研究所建立了合作关系，我们拥有在半导体设备制造和光刻领域等经验丰富的专业团队，海思半导体秉承为客户提供优良的技术方案，且不断优化业务结构和提升服务品质，持续为客户提供高品质服务。

   2023年6月江苏海思半导体科技有限公司成功推出步进式光刻机并成功投入市场，并同步开发350nm分辨率步进式光刻机。

       2024年正式推出350nm以及500nm分辨率步进式光刻机。

公司产品：

步进式投影光刻机（化合物、MESM、功率器件等领域单面或双面光刻工艺）

化合物半导体专用全自动接触式光刻机 (Mask Aligner) 

功率器件专用全自动光刻机(Mask Aligner)

MEMS传感器 全自动掩膜版光刻机(Mask Aligner)